當(dāng)前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > > 高低溫一體機(jī) > 半導(dǎo)體控溫測試高低溫循環(huán)裝置
簡要描述:半導(dǎo)體控溫測試高低溫循環(huán)裝置能為用戶提供熱冷卻受控、恒溫均勻的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,全量程范圍內(nèi)的溫度控制,應(yīng)用于石化、制藥等化學(xué)反應(yīng)過程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散過程控制,在反應(yīng)釜、全自動合成儀器、萃取和冷凝裝置中的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。
詳細(xì)介紹
適用于多種場合不僅能為用戶提供恒定且均勻的溫控環(huán)境,具備直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的功能,能夠在全量程范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)溫度的精確控制。它被廣泛應(yīng)用于石化、制藥等行業(yè)中化學(xué)反應(yīng)過程的控制,以及半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散過程的控制,還有在反應(yīng)釜、全自動合成儀器、萃取和冷凝裝置中的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。
控溫能力較好的高低溫循環(huán)裝置,能夠向用戶提供一個穩(wěn)定且均勻的溫控環(huán)境,同時也能直接進(jìn)行加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷,以實(shí)現(xiàn)全量程范圍內(nèi)的溫度調(diào)節(jié)。該裝置在石化、制藥等行業(yè)的化學(xué)反應(yīng)過程控制中表現(xiàn)優(yōu)異,同時也廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散過程的控制,以及在反應(yīng)釜、全合成儀器、萃取和冷凝裝置中的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。
我們的控溫測試裝置,具備強(qiáng)大的控溫能力,能為用戶提供受控、恒溫均勻的溫控環(huán)境,同時也能直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷,實(shí)現(xiàn)全量程范圍內(nèi)的溫度精準(zhǔn)控制。該裝置在石化、制藥等行業(yè)的化學(xué)反應(yīng)過程控制中有著廣泛的應(yīng)用,同時也被大量用于半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散過程的控制,以及在反應(yīng)釜、全自動合成儀器、萃取和冷凝裝置中的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。
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